Gasinjektionssystem (GIS)

Ein Gasinjektionssystem (GIS) ist ein Geräteoption, die es ermöglicht, Abscheidungs- und Ätzprozesse auf einer Probe durchzuführen. Dabei wird unterschieden zwischen FIB-Abscheidungen (eng. Focused Ion Beam Induced Deposition, kurz FIBID), SEM-Abscheidungen (eng. Focused Electron Beam Induced Deposition, kurz FEBID) und dem FIB-Ätzen.

Gasinjektionssysteme können als Einzel-GIS bzw. als Multi-GIS ausgeführt sein. Der Unterschied besteht darin, dass das Einzel-GIS mit nur einem Gas (Precursor) arbeitet und nur mit einer Düse abgeschlossen ist. Ein Multi-GIS besitzt am Ende einer breiten Lanze mehrere Düsen (meist 5 Stück) und kann dadurch fünf unterschiedliche Gase verwenden.

Häufig eingesetzte Gase sind Xenondiflurid (XeF2, wird häufig zum FIB-Ätzen eingesetzt), Platin (Pt, wird bei TEM Lamellen genutzt), Siliziumdioxid (SiO2), Iod (I), Wolfram (W), Kohlenstoff (C) und Wasser (H2O).